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    公开号:WO1992013062A1
    申请号:PCT/JP1992/000028
    申请日:1992-01-16
    公开日:1992-08-06
    发明作者:Minoru Igari；Minoru Takahashi；Ichiro Takakura；Naohiko Takahashi；Masahiko Kitayama
    申请人:Nippon Zeon Co., Ltd.；
    IPC主号:C12N15-00
    专利说明:
    [0001] 明 糊 細胞処理用噴射装置 技術分野
    [0002] 本発明は、 細胞に形質転換を起こ させるために使用 さ れる細胞処理用噴射装置に関する。
    [0003] すなわち、 こ の噴射装置は、 例えば、 遺伝物質を付着 させた金属微粒粉等の細胞処理材を高速で噴射し、 細胞 を含む,試料に当てて遺伝物質を細胞内に注入 した り、 細 胞に細胞を高速噴射して細胞融合を起こ させた りする用 途に利用 される ものである。 背景技術
    [0004] 細胞処理用噴射装置と して、 火薬、 圧縮空気等を用い て先端に細胞処理材を付着させたプラスチ ッ ク製 ビス ト ンを高速に加速し、 小孔を有する板等に衝突させ、 細胞 処理材を噴射する よ う に した ものが知 られている。
    [0005] こ の従来の装置では、 ピス ト ンすなわち細胞処理材の 速度を高速にする こ とが困難である。 実験によれば、 火 薬を用いる装置において、 火薬使用量を大巾に増や して も、 速度の上昇はご く わずかである。 こ の原因は、 ビス ト ンがシ リ ン ダに対 してわずかな抵抗で動 く ため、 火薬 が十分に燃焼して高い圧力を発生する前に、 銃身前方に 進行 し衝突を して しま う からである。 即ち製作や取 り扱 いを簡便にする 目的でピス ト ン と シ リ ンダとの間には極 く 僅かの摩擦力 しか生 じない構造となっている。 そのた め ピス ト ンは、 火薬燃焼速度が最大にな り ピス ト ン後部 のガス圧の上昇速度がピーク に達する までの間装塡位置 に留ま っている こ とが出来ず、 火薬燃焼の極く 初期段階 でビス ト ンが銃身前方に移動した り銃身外に排出された りするため、 ピス ト ン後部のガス圧は充分上昇する こ と ができない。 このよ うな条件下では、 火薬装填量の多寡 は、 殆どピス ト ン速度に影響を与えないのである。
    [0006] また、 圧縮空気等を用いる場合も、 同様に、 噴出弁を 開 く と、 ビス ト ンの背後が十分に高圧になる前に ビス ト ンが進行して しまい、 高速にする こ とが困難である。
    [0007] また、 こ の装置では、 ピス ト ンすなわち細胞処理材の 速度を調節する手段は、 火薬を用いる装置においては、 火薬の量を変化させる方法以外に特に有効な方法はな く 、 また、 高圧ガスを用いる装置において も、 ガス圧を調節 する方法程度しかない。 したがって、 速度調節は困難で あ り、 しかも調節範囲は狭いという欠点がある。 発明の開示
    [0008] そ こ で、 本発明は、 ピス ト ンすなわち細胞処理材の速 度を十分高速にする こ とのでき る、 新たな構成の細胞処 理用噴射装置を得る こ と、 及びピス ト ン速度に従って細 胞処理材の噴射速度を容易にかつ広範囲に速度調節でき る細胞処理用噴射装置を得る こ とを目的とする ものであ る o
    [0009] 本発明の細胞処理用噴射装置は、 高圧ガスを瞬時に発 生させる ガス発生部と、 こ のガス発生部に連な り、 ガス を受け入れる ガス溜室と、 こ のガス溜室に連な り、 ガス 溜室と同 じ又は小さな断面積を有 し、 先端に細胞処理材 が付着させられた ビス 卜 ンを収納 し、 ガス溜室からのガ スによ り こ の ピス ト ンを先端方向へ進行させる シ リ ン ダ と、 小孔を有 し、 こ のシ リ ン ダの先端又は先端延長上に 設けられ、 ピス ト ンを衝突させて細胞処理材を小孔から 試料に噴射させる噴射部と、 前記ガス溜室と シ リ ン ダと の間に設けられ、 シ リ ンダへのガスの流れに抵抗を加え る抵抗体とを有する こ とを特徴とする ものであ り、 こ の 装置は、 従来の ものよ り、 ピス ト ン速度を高 く する こ と ができ る。
    [0010] また、 本発明の細胞処理用噴射装置は、 ガス発生部と シ リ ン ダ中の ピス ト ン との間に、 容積を調節する こ とが でき、 シ リ ン ダへのガスの流れの一部を受け入れて溜め る タ ン クを設けてなる もの とする こ と もでき る。 この場 合には、 細胞処理用噴射装置のタ ン ク の容積調節によ り、 ピス ト ン速度を任意に調節する こ とができ る。
    [0011] こ の細胞処理用噴射装置のガス発生部は、 火薬及びこ れを点火させる点火機構よ り なる も の、 あるいは、 高圧 ガスタ ン ク及びこれに連なる噴出弁よ り なる ものを使用 する こ とができ る。
    [0012] 抵抗体と しては、 ガスの流れを仕切る よ う に設け られ、 ガスによ り破壤される紙、 プラスチ ッ ク等製の板体が使 用でき、 その形状は、 平板状、 ガス発生部方向に向かつ て突出する円錐状等とする こ とができる。 また、 ガスの 流れを仕切る よ う に設けられ、 シ リ ンダの断面積よ り小 さい断面積の開口部を有する仕切板を使用する こ と もで き、 その形状は、 平板状であって、 開口部が 1 の孔よ り なる もの、 カ ッ プ状であって、 開口部が複数の孔よ りな る もの等とする こ とができ る。
    [0013] さ らに、 本発明の細胞処理用噴射装置は、 ガス発生部 と シ リ ン ダ中の ピス ト ン との間に、 シ リ ンダへのガスの 流れの一部を流出させる流出孔と、 こ の流出孔に接続し て予め設定した圧力になる と開いてガスを外部へ放出さ せる調圧弁を設けて、 噴射速度を調節可能と して も よい。 図面の簡単な説明
    [0014] 図 1 は、 本発明の第 1 実施例の斜視図、
    [0015] 図 2 は、 同例の要部縦断面図、
    [0016] 図 3 は、 第 2 実施例の要部縦断面図、
    [0017] 図 4 は、 第 3 実施例の要部縦断面図、
    [0018] 図 5 は、 第 4 実施例の要部縦断面図、
    [0019] 図 6 は、 第 5 実施例の要部縦断面図、
    [0020] 図 7 は、 第 6 実施例の要部縦断面図である 発明を実施するための最良の形態
    [0021] 以下、 図面に従って本発明の実施例について具体的（： 説明する。
    [0022] 図 1 ， 2 に本発明にょる第 1 実施例の細胞処理用噴射 装置 1 0 を示す。 こ の装置 1 0 は、 台部 1 1 上に着脱自 在のケース 1 2 を載せて、 全体を被われている。 ケース 1 2 を被せた状態で吸引口 1 3 から真空ポンプ （図示 し ない） で内部の空気を吸引する こ とによ り、 ケース 1 2 内部全体を減圧状態にする こ とができ る。
    [0023] 台部 1 1 には、 支柱 1 4 が設け られ、 これにホルダ 1 5 が押さえネ ジ 1 6 を操作する こ とによ り上下位置調節 可能となる よ う取付け られている。
    [0024] ホルダ 1 5 は筒体 1 7 を支持し、 こ の筒体 1 7 の上端 部内には火薬を内蔵 した空砲カー ト リ ッ ジ 1 8 を装填す る こ とができ、 筒体 1 7上部にはこの空砲カー ト リ ッ ジ 1 8 を装塡、 点火する点火機構 1 9 が設け られ、 これ ら の空砲カー ト リ ッ ジ 1 8 と点火機構とでガス発生部 2 0 を構成している。 なお、 こ の点火機構 1 9 の点火はソ レ ノ イ ドで作動する よ う にされ、 その操作はケース 1 2 外 カヽら行われる。
    [0025] 筒体 1 7 の内部はガス溜室 2 1 とな り、 その先端には シ リ ン ダ 2 2 が着脱自在にネ ジ止めされている。 こ のシ リ ン ダ 2 2 は、 内部に ピス ト ン 2 3 を収納する。 ピス ト ン 2 3 は、 プラ スチ ッ ク製であ り、 後部周囲に リ ブを突 出きせてシ リ ン ダ 2 2 内面を押 してその位置を保持し、 先端には凹部が形成され、 こ こ に細胞処理材 2 4 、 例え ば遺伝物質を付着させたタ ン グステ ン微粒粉が、 例えば 水の表面張力によ り付着させられる。
    [0026] シ リ ン ダ 2 2 の先端すなわち下端には、 前部カバー 2 5 の根元部がバヨ ネ ッ ト式ネ ジによ り着脱自在に取付け られている。 こ の前部カバ一 2 5 は、 台部 1 1 上に置か れる試料 2 6 を被う と と もに、 シ リ ンダ 2 2 の前端との 間に噴射部 2 7 を挟んで保持する。 こ の噴射部 2 7 は小 孔 2 8 を有し、 ピス ト ン 2 3 を衝突させ細胞処理材 2 4 を小孔 2 8 から噴射させる。
    [0027] シ リ ンダ 2 2 の先端近 く には排気孔 2 9 , 3 0 , …が設けられ、 また前部カバ一 2 5 の根元部に も排気孔 3 0 ， …に連通する排気孔 3 1 ， …が設けられている。 筒体 1 7 の先端と シ リ ンダ 2 2 との間には、 抵抗体 3 2 が、 ガス溜室 2 1 とシ リ ンダ 2 2 との間でガスの流れ を仕切る よ う に設けられている。 こ の抵抗体 3 2 は、 ガ スによ り破壊しう る紙、 プラスチ ッ ク等製の板体よ りな り、 平板状となっている。
    [0028] 次にこのよ うな構成を有する細胞処理用噴射装置の作 動について説明する。
    [0029] 初めに、 次のよ う に して準備をする。 台部 1 1 上に試 料 2 6 を置 く 。 シ リ ンダ 2 2 に細胞処理材 2 4 を付着さ せた ピス ト ン 2 3 を収納 し、 抵抗体 3 2 を挟んで茼体 1 7 に取付ける。 空砲カー ト リ ッ ジ 1 8 を装填し、 ホルダ 1 5 を適当な高さに固定する。 ケース 1 2 を被せて、 ケ ース 1 2 内を減圧する。
    [0030] 次に、 点火機構 1 9 を作動させる。 こ うする と、 空砲 カ ー ト リ ッ ジ 1 8 内の火薬から高圧ガスが発生 し、 こ の ガスはガス溜室 2 1 に充満 した後、 抵抗体 3 2 を破壊 し シ リ ン ダ 2 2 内に進み、 ビス ト ン 2 3 を押 して高速に加 速 し、 噴射部 2 7 に衝突させる。 こ の衝突によ り細胞処 理材 2 4 は小孔 2 8 を通 して噴射され、 試料 2 6 に当た つて、 遺伝物質を細胞内に注入する等の細胞処理が実現 される。 この と き排気孔 2 9 ， …、 3 0 , 、 3 1 , … から ピス ト ン 2 3 前方に残留 している空気が排出される , なお、 一旦こ の装置を使用する と、 ピス ト ン 2 3 及び 抵抗体 3 2 は破損するので、 空になった空砲力 一 ト リ ッ ジ 1 8 と と も に交換しなければな らない。
    [0031] 図 3 に本発明による第 2 実施例の細胞処理用噴射装置 4 0 を示す。 第 1 実施例の細胞処理用噴射装置 1 0 の抵 抗体 3 2 を他の抵抗体 4 1 に置き換えただけであって、 他の構成は第 1 実施例の装置と同様であ り、 各部に第 1 実施例の装置の対応部所と同 じ符号を付して示す。 こ の 装置の抵抗体 4 1 は、 ガスによ り破壤し う る紙、 プラ ス チ ッ ク等製の板体よ り な り、 ガス発生部方向に向かって 突出する円維状とな っている。
    [0032] こ の第 2 実施例の細胞処理用噴射装置 4 0 も、 第 1 実 施例の装置 1 0 と同様に して使用 され、 作動する。 こ の 装置の抵抗体 4 1 はガス発生方向に向かって突出する円 錐状であるため、 第 1 実施例における抵抗体 3 2 よ り高 い圧力 まで破壊 しないよ う にする こ とができ、 よ り 高い 圧力にな つてから ピス ト ン 2 3 にガスを流し、 よ り高速 に ビス ト ンを加速する こ とが可能となる。
    [0033] 図 4 に本発明による第 3 実施例の細胞処理用噴射装置 5 0 を示す。 第 1 実施例の細胞処理用噴射装置 1 0 の抵 抗体 3 2 を他の抵抗体 5 1 に置き換えただけであって、 他の構成は第 1 実施例の装置と同様であ り、 各部に第 1 実施例の装置の対応部所と同 じ符号を付して示す。 こ の 装置の抵抗体 5 1 は、 ガスの流れを仕切る平板状の仕切 板よ りな り、 1 の孔よ りなる開口部 5 2 を有している。 こ の開口部 5 2 の断面積はシ リ ンダ 2 2 の断面積よ り 小 さ く されている。
    [0034] こ の装置 5 0 も、 第 1 実施例の装置 1 0 と同様に して 使用され、 ほぼ同様に作動する。 こ の装置の抵抗体 5 1 は、 破壊する ものではな く 、 開口部 5 2 によ り ガスの流 れに抵抗を与える ものである。 ガス発生部 2 0 のガス発 生は極めて高速であるので、 開口部 5 2 の流動抵抗だけ でガス溜室 2 1 内に高圧ガスを溜める こ とができ る。 し たがって、 ガスは、 一旦高圧になった後、 シ リ ンダ 2 2 に流れて ピス ト ン 2 3 が進行するので、 ピス ト ン 2 3 は 高速に加速される。
    [0035] 実験による と、 ピス ト ンの衝突時速度が、 抵抗体を用 いない場合に 6 6 0 m Z s であるのに対し、 こ の抵抗体 5 1 (開口部断面積をシ リ ンダ断面積の 2 分の 1 と し た） を用いた場合には 1 0 8 0 m s となった。
    [0036] 図 5 に本発明による第 4 実施例の細胞処理用噴射装置 6 0 を示す。 第 1 実施例の細胞処理用噴射装置 1 0 の筒 体 1 7 を根元部が大径の筒体 6 1 に置き換え、 抵抗体 3 2 の代わり に他の抵抗体 6 2 を用いた ものであ って、 他 の構成は第 1 実施例の装置と同様であ り、 、各部に第 1 実 施例の装置の対応部所と同 じ符号を付して示す。 こ の装 置の抵抗体 6 2 は、 ガスの流れを仕切る カ ッ プ状の仕切 板よ り な り、 複数の孔よ りなる開口部 6 3 を有している この開口部 6 3 の合計断面積はシ リ ンダ 2 2 の断面積よ り小さ く されている。 なお、 ガス溜室 2 1 と シ リ ンダ 2 2 との間にはシ リ ン ダ 2 2 よ り大きな断面積を有する中 間室 6 4 が形成され、 シ リ ンダ 2 2 はこ の中間室 6 4 を 介 してガス溜室 2 1 に連なる こ とになる。
    [0037] こ の装置 6 0 も、 第 3 実施例の装置 5 0 と同様に して 使用され、 作動する。
    [0038] 図 6 に本発明による第 5 実施例の細胞処理用噴射装置 7 0 を示す。 こ の装置 7 0 は第 3 実施例の装置 5 0 の噴 射速度を調節可能と した ものである。 こ の装置 7 0 では、 第 3 実施例のホルダ 1 5 、 筒体 1 7 を、 他の構成のホル ダ 7 1 、 筒体 7 2 に置き換え、 他の部分は第 3 実施例の 装置 5 0 と同様に構成した ものであ り、 各部に第 3 実施 例の装置の対応部所と同 じ符号を付して示す。 ホル ダ 7 1 は下端部が小径とな り、 筒体 7 2 は空砲カー ト リ ッ ジ 1 8 近 く の周面に流出孔 7 3 , …を、 外周にネ ジ溝 7 4 を有する。 さ らに こ の装置 7 0 では、 ネ ジ溝 7 4 に調節 環 7 5 を螺合させ、 こ の調節環 7 5 に押されたバネ 7 6 が、 筒体 7 2 外周に上下動可能に嵌合 して流出孔 7 3 , …からガスを受ける略力 ッ プ状の可動環 7 7 をホ儿 ダ 7 1 に押付ける よ う に してなる調圧弁 7 8 が付加されてい る o
    [0039] こ の装置 7 0 も、 第 3 実施例の装置 5 0 と同様に して 使用され、 作動 して細胞処理材 2 4 を噴射する。 こ の装 置 7 0 では、 調圧弁 7 8 があるため、 予め調節環 7 5 を 操作して可動環 7 7 を適宜強さで押付けてお く こ とによ り、 ガス溜室 2 1 内が一定の圧力になる と、 流出孔 7 3 ， …から可動環 7 7 内に入ったガスが可動環 7 7 をパネ 7 6 に抗して押し下げ、 ガスは外部に放出される。 このた めビス ト ン 2 3 の速度すなわち細胞処理材 2 4 の噴射速 度が調節される。
    [0040] 図 7 に本発明による第 6 実施例の細胞処理用噴射装置 8 0 を示す。 こ の装置 8 0 も第 3 実施例の装置 5 0 の噴 射速度を調節可能と した ものである。 この装置 8 0 では、 第 3 実施例の筒体 1 7、 シ リ ンダ 2 2 を、 他の構成の筒 体 8 1 、 シ リ ンダ 8 2 に置き換え、 他の部分は第 3 実施 例の装置 5 0 と同様に構成した ものであ り、 各部に第 3 実施例の装置の対応部所と同 じ符号を付して示す。 筒体 8 1 は空砲カー ト リ ッ ジ I 8 近 く の周面に流出孔 8 3 , …を有し、 ホルダ 1 5 との間に周溝 8 4 を形成し、 シ リ ンダ 8 2 は周面にキー溝 8 5 を有する。 さ らにこ の装置 8 0 では、 調節環 8 6 及び可動環 8 7が付加されている。 調節環 8 6 は、 略逆カ ッ プ状であ り、 内面にネ ジ溝 8 8 を有し、 周溝 8 4 に回動可能に嵌合する。 可動環 8 7 は、 シ リ ンダ 8 2 外周に上下動可能に嵌合 してネ ジ溝 8 8 に 螺合 し、 調節環 8 6 の内部との間にタ ン ク 8 9 を形成す る。 またこ の可動環 8 7 は小ネ ジ 9 0 を有して'お り、 こ の小ネ ジ 9 0 をキー溝 8 5 に嵌合させて可動環 8 7 を回 動不能と して、 その後調節環 8 7 を回動させる こ とによ り調節環 8 7 を上下動させて、 タ ン ク 8 9 の容積を調節 する こ とができ る。
    [0041] こ の装置 8 0 も、 第 3 実施例の装置 5 0 と同様に して 使用 され、 作動 して細胞処理材 2 4 を噴射する。 こ の装 置 8 0 では、 タ ン ク 8 9 があるため、 予め調節環 8 6 を 操作してタ ン ク 8 9 の容量を調節 してお く こ とによ り、 タ ン ク 8 9 が流出孔 8 3 ， …からガスを適宜量受け入れ- ガス溜室 2 1 内の圧力を制限する こ とができ、 こ のため ビス ト ン 2 3 の速度すなわち細胞処理材 2 の噴射速度 が調節される。
    [0042] こ の細胞処理用噴射装置 8 0 によ る、 細胞処理材 2 4 の噴射について説明する。
    [0043] 第 1 実施例の装置 1 0 と同様の準備を して、 点火機構 1 9 を作動させる と、 空砲カ ー ト リ ッ ジ 1 8 内の火薬か ら高圧ガスが発生 し、 このガスは抵抗体 5 1 の開口部 5 2 の流動抵抗によ り、 ガス溜室 2 1 及びタ ン ク 8 9 内に 充満 し、 こ の後、 シ リ ン ダ 8 2 内に進み、 ピス ト ン 2 3 を押して高速に加速し、 噴射部 2 7 に衝突させる。 こ の 衝突によ り細胞処理材 2 4 は小孔 2 8 を通 して噴射され、 試料 2 6 に当たって、 遺伝物質を細胞内に注入する等の 細胞処理が実現される。 こ の と き排気孔 2 9 , 、 3 0 …、 3 1 , …から ピス ト ン 2 3 前方に残留 している空気 が排出される。
    [0044] すなわち、 タ ン ク 8 9 は、 ガスを受け入れ、 ピス ト ン 2 3 背後の圧力を調節する こ とによ り、 ピス ト ン 2 3 の 速度つま り細胞処理材 2 4 の噴射速度調節する ものであ り、 その容積が大きいほ ど噴射速度が低速となる。
    [0045] 抵抗体 5 1 は、 ピス ト ン 2 3 へのガスの流れに抵抗を 与え、 ガス発生部 2 1 が未だ十分にガスを発生しないう ちに、 ピス ト ンが低速のま ま進行して しま う こ とを防止 し、 ピス ト ンの高速化並びに速度の調節範囲の拡大を図 る ものである。
    [0046] 以上、 本発明による細胞処理用噴射装置の実施例につ いて述べたが、 本発明はこれ らの例のほか、 各種の構成 とする こ とができる。 例えば、 上記例は何れ もガス発生 部と して、 火薬を用いたものを利用 しているが、 空気銃 と同様な圧縮空気を噴出弁によ り噴出させる もの等の高 圧ガスを用いた ものも利用する こ とができ る。 噴射部も、 図示のよ う にシ リ ンダの先端に設けるほか、 シ リ ン ダ先 端から離して設ける構造とする こ と もでき る。 抵抗体に ついても噴射速度を高速化、 広範囲化する ものであるな ら、 低速用の装置については省略する こ とができ、 また そ'の構成も上記例のもののほか、 単に外部から ピンを差 し込んだもの等、 任意の構成とする こ とができ る。 噴射 速度を調節するための調圧弁、 タ ン クの構成も上記例に 限る ものではない。
    [0047] 例えば、 タ ン クの構成はシ リ ンダの一部を大径に して 二の大径部分を伸縮させる構成等とする こ と もでき、 要 するにガスを受け入れてその容積を調節する こ とのでき る ものであれば任意である。
    [0048] 特に、 これ らに用いる流出孔の位置は、 図示のよ う に 抵抗体の上流に設けるだけでな く 、 下流に設ける構成も 可能である。 さ らに、 図示の装置は減圧状態で使用する よ う にな っているが、 用途によ っては常圧状態で使用す る こ と もでき る。 発明の効果
    [0049] 本発明の細胞処理用噴射装置は、 上述のよ う に、 抵抗 体を有するので、 ガス発生部からのガスが直ちに ピス ト ンを押すのではな く 、 一旦ガス溜室に溜め られる。 従つ て、 ガスが十分高圧になる前に ピス ト ンが進行して噴射 を完了 して しま う という従来の作動は改善され、 ガスが 高圧にな っ た後に ピス ト ンが進行し、 高速の噴射速度か 得られる。 特に、 ガス発生部に火薬を用いた場合は、 ガ ス溜室が高圧になる こ とで火薬の燃焼も高速化されるの で、 噴射速度は極めて良好に高速化される。 また、 噴射 速度が高速になる こ とから、 調圧弁やタ ン クを用いて速 度調節を可能とする と、 その調節範囲が広い もの とな り 多様な応用分野に使用 し う る もの となる。
    权利要求:
    Claims 請
    1 . 高圧ガスを瞬時に発生させるガス発生部と、 こ のガス発生部に連な り、 ガスを受け入れるガス溜室 の
    と、
    こ のガス溜室に連な り、 ガス溜室と同 じ又は小さな断 面積を有し、 先端に囲細胞処理材が付着させられた ピス ト ンを収納 し、 ガス溜室からのガスによ り この ピス ト ンを 先端方向へ進行させる シ リ ンダと、
    小孔を有し、 このシ リ ンダの先端又は先端延長上に設 けられ、 ピス ト ンを衝突させて細胞処理材を小孔から試 料に噴射させる噴射部と、 前記ガス溜室とシ リ ンダとの間に設けられ、 シ リ ンダ へのガスの流れに抵抗を加える抵抗体と
    を有する こ とを特徴とする細胞処理用噴射装置。
    2. ガス発生部が、 火薬及びこれを点火させる点火機 構よ り なる請求項 1 記載の細胞処理用噴射装置。
    3. ガス発生部が、 高圧ガスタ ン ク及びこれに連なる 噴出弁よ りなる請求項 1 記載の細胞処理用噴射装置。
    4. 抵抗体が、 ガスの流れを仕切る よ う に設けられ、 ガスによ り破壤される紙、 プラスチ ッ ク等製の板体よ り なる請求項 1 ， 2 又は 3 記載の細胞処理用噴射装置。
    5. 板体が平板'状である請求項 4 記載の細胞処理用噴 射装置。
    6. 板体がガス発生部方向に向かって突出する円維状 である請求項 4 記載の細胞処理用噴射装置。
    7. 抵抗体が、 ガスの流れを仕切る よ う に設けられ、 シ リ ン ダの断面積よ り小さい断面積の開口部を有する仕 切板よ り なる請求項 1 ， 2 又は 3 記載の細胞処理用噴射
    8. 仕切板が平板状であって、 開口部が 1 の孔よ り な る請求項 7 記載の細胞処理用噴射装置。
    9. 仕切板がカ ッ プ状であ って、 開口部が複数の孔ょ り なる請求項 7 記載の細胞処理用噴射装置。
    1 0. ガス発生部と シ リ ンダ中の ビス ト ン との間に設け られ、 シ リ ン ダへのガスの流れの一部を流出させる流出 孔と、 こ の流出孔に連な り、 予め設定した圧力になる と 開いてガスを外部へ放出させる調圧弁を有し、 噴射速度 が調節可能とな った請求項 1 〜 9 の何れかに記載の細胞 処理用噴射装置。
    1 1 . ガス発生部と シ リ ンダ中の ビス ト ン との間に設け られ、 容積を調節する こ とができ、 シ リ ンダへのガスの 流れの一部を受け入れて溜める タ ン クを有し、 噴射速度 が調節可能とな った請求項 1 〜 9 の何れかに記載の細胞 処理用噴射装置。
    1 2. 高圧ガスを瞬時に発生させるガス発生部と、
    こ のガス発生部に連な り、 ガスを受け入れるガス溜室 と、
    こ のガス溜室に連な り、 ガス溜室と同 じ又は小さな断 面積を有 し、 先端に細胞処理材が付着させられた ピス ト ンを収納 し、 ガス溜室からのガスによ り この ピス ト ンを 先端方向へ進行させる シ リ ンダと、
    小孔を有し、 こ のシ リ ンダの先端又は先端延長上に設 けられ、 ピス ト ンを衝突させて細胞処理材を小孔から試 料に噴射させる噴射部と、
    ガス発生部と シ リ ンダ中の ビス ト ン との間に、 容積を 調節する こ とができ、 シ リ ンダへのガスの流れの一部を 受け入れて溜める タ ン ク と
    を有する こ とを特徴とする細胞処理用噴射装置。
    类似技术:
    公开号 | 公开日 | 专利标题
    KR100535174B1|2005-12-08|완구총
    US5936189A|1999-08-10|Cartridged ammunition
    US3262272A|1966-07-26|Method of ejecting a missile from a launching tube
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    同族专利:
    公开号 | 公开日
    AU1168792A|1992-08-27|
    引用文献:
    公开号 | 申请日 | 公开日 | 申请人 | 专利标题
    法律状态:
    1992-08-06| AK| Designated states|Kind code of ref document: A1 Designated state(s): AU CA US |
    1992-08-06| AL| Designated countries for regional patents|Kind code of ref document: A1 Designated state(s): AT BE CH DE DK ES FR GB GR IT LU MC NL SE |
    1994-03-09| 122| Ep: pct application non-entry in european phase|
    1994-09-18| NENP| Non-entry into the national phase in:|Ref country code: CA |
    优先权:
    申请号 | 申请日 | 专利标题
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